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什么是質(zhì)量流量計(jì)（MFC）?質(zhì)量流量計(jì)，即MassFlowMeter（縮寫為MFM）,是一種測量氣體流量的儀表，其測量值不因溫度或壓力的波動而失準(zhǔn)，不需要溫度壓力補(bǔ)償。質(zhì)量流量控制器,即MassFlowController（縮寫為MFC）,不但具有質(zhì)量流量計(jì)的功能，更重要的是，它能自動控制氣體流量，即用戶可根據(jù)需要進(jìn)行流量設(shè)定，MFC自動地將流量恒定在設(shè)定值上，即使系統(tǒng)壓力有波動或環(huán)境溫度有變化，也不會使其偏離設(shè)定值。簡單地說,質(zhì)量流量控制器就是一個穩(wěn)流裝置,是一個可以手動設(shè)...

真空測量儀是新一代智能復(fù)合真空測量儀。采用單片微機(jī)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，真空度讀數(shù)數(shù)字顯示，測量結(jié)果直觀、明確、讀數(shù)方便。真空測量儀：電離規(guī)管的除氣可以自動或手動進(jìn)行。采用數(shù)據(jù)記憶電路，熱偶部分可在校準(zhǔn)時(shí)直接將與熱偶電勢相對應(yīng)的真空度數(shù)值，通過面板上的按鈕置人儀器內(nèi)部記憶單元。儀器可按有限個校準(zhǔn)點(diǎn)構(gòu)成的校準(zhǔn)曲線進(jìn)行真空度測量。電離部分則可以將電離規(guī)管的校準(zhǔn)系數(shù)置入儀器內(nèi)部記憶單元。測量時(shí)可以對讀數(shù)進(jìn)行修正，測量精度高。采用帶有反饋環(huán)節(jié)的D/A電路控制熱偶加熱電流的大小，熱偶加熱電流可...

真空規(guī)管就是測量真空度的傳感器。真空規(guī)管測量出來的信號傳輸?shù)秸婵沼?jì)上經(jīng)過放大處理就可以顯示出被測真空環(huán)境的真空度。主要應(yīng)用于真空環(huán)境的真空度測量領(lǐng)域，如真空鍍膜，太陽能集熱管制作，真空冶煉等。真空規(guī)管一般是裝在真空鍍膜室的位置，是指電離規(guī)管，玻璃管端部用老虎鉗夾破一點(diǎn)，插進(jìn)真空室密封好，必須大氣狀態(tài)完成。（還有電阻規(guī)它是測粗真空的，這種沒有規(guī)管，就一個傳感器）用來監(jiān)測真空度的，，電離規(guī)開啟一般是有要求的，當(dāng)壓強(qiáng)到3PA以下才開真空，可設(shè)置壓強(qiáng)參數(shù)，到了會自動開，過早開會氧化電...

工業(yè)部門應(yīng)用實(shí)例備注電子工業(yè)半導(dǎo)體材料、電介質(zhì)材料、導(dǎo)電材料、超導(dǎo)材料、太陽能電池、集成線路及電路元件等低基片溫度機(jī)械工業(yè)耐蝕、耐熱、耐摩擦性能保護(hù)性材料等厚膜光學(xué)工業(yè)反射膜、選擇性透光膜、光集積回路、反射鏡保護(hù)膜低基片溫度裝飾塑料涂層、陶瓷涂層、彩虹包裝等厚膜航天及交通導(dǎo)電玻璃擋風(fēng)玻璃電子工業(yè)：半導(dǎo)體材料、電介質(zhì)材料、導(dǎo)電材料、超導(dǎo)材料、太陽能電池、集成線路及電路元件等。低基片溫度機(jī)械工業(yè)：耐蝕、耐熱、耐摩擦性能保護(hù)性材料等。厚膜光學(xué)工業(yè)：反射膜、選擇性透光膜、光集積回路、...

膜厚可控性和重復(fù)性好控制靶電流可以控制膜厚通過濺射時(shí)間控制膜厚薄膜與基片的附著力強(qiáng)高能量的濺射原子產(chǎn)生不同程度的注入現(xiàn)象，形成一層偽擴(kuò)散層基片在成膜過程中始終在等離子區(qū)中被清洗和激活，清除了附著力不強(qiáng)的濺射原子，凈化且激活基片表面。可以制備特殊材料的薄膜可濺射幾乎所有的固體（包括粒狀、粉狀的物質(zhì)），不受熔點(diǎn)的限制。使用不同材料同時(shí)濺射制備混合膜、化合膜。可制備氧化物絕緣膜和組分均勻的合金膜。可通入反應(yīng)氣體，采用反應(yīng)濺射方法制備與靶材*不同的新的物質(zhì)膜。如用硅靶制作二氧化硅絕緣...

現(xiàn)在市面上有多種晶振片，有進(jìn)口的有國產(chǎn)的，有鍍金的、鍍銀的、還有銀鋁合金的，如果選擇確實(shí)是我們廣大用戶想知道的，以下就是我們選擇的一個參考。晶體的質(zhì)量和壽命不僅影響速率和厚度測量的準(zhǔn)確性，更重要的是還決定著受控制的過程能否成功完成。INFICON石英晶體具有經(jīng)過實(shí)踐驗(yàn)證的品質(zhì)和可靠性，其在各種材料、應(yīng)用和行業(yè)中的無數(shù)次成功的過程運(yùn)行充分證明了這一點(diǎn)。我們的6MHz晶體可與所有INFICON控制器和監(jiān)控器結(jié)合使用。而5MHz晶體只能與5MHz儀器結(jié)合使用；與有些INFICON儀...

石英晶體膜厚控制儀的特點(diǎn)：1、標(biāo)準(zhǔn)RS-232和USB（有以太網(wǎng)選件）。2、貯存容量高至100個工藝過程，1，000個膜層，50個膜系。3、用單傳感器或多傳感器監(jiān)測源材料，提供的源分布監(jiān)測。4、高亮度，VGA活性點(diǎn)陣彩色LCD顯示器–可顯示英文或中文。5、易設(shè)置和操作，有“快速設(shè)置”菜單，6個上下文-敏感的按鈕，和方便的參數(shù)設(shè)定旋鈕。6、Window程序用于開發(fā)，測試，和下載工藝過程，和將儀器數(shù)據(jù)記錄至您的PC上，用于過程分析與質(zhì)量控制。7、的過程控制，尤其用于低淀積率，在1...

閥作為液氣壓系統(tǒng)中的重要元件，實(shí)現(xiàn)對流體壓力、流量和流向的控制，直接影響著液氣壓系統(tǒng)的工作過程和工作性能。隨著液氣壓技術(shù)從傳統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域向空間、信息和生物醫(yī)學(xué)等新技術(shù)領(lǐng)域的不斷拓展，對液氣壓系統(tǒng)的尺寸、控制精度、響應(yīng)速度和可靠性等各個方面都提出了更高的要求。傳統(tǒng)的控制閥較難滿足這樣的要求，因此對于閥的革新成為了國內(nèi)外科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)的研究開發(fā)熱點(diǎn)。壓電閥zui早出現(xiàn)在20世紀(jì)90年代SIEMENS公司推出的SPIARTPS智能閥門定位器中。它利用壓電晶體的逆壓電效應(yīng)，在實(shí)際應(yīng)用當(dāng)...

質(zhì)量流量計(jì)是一種直接而精密地測量流體質(zhì)量流量的新穎儀表，以結(jié)構(gòu)主體采用兩根并排的U形管，讓兩根管的回彎部分相向微微振動起來，則兩側(cè)的直管會跟著振動，即它們會同時(shí)靠攏或同時(shí)張開，即兩根管的振動是同步的，對稱的，如果在管子同步振動的同時(shí)，將流體導(dǎo)入管內(nèi)，使之沿管內(nèi)向前流動，則管子將強(qiáng)迫流體與之一起上下振動。這樣就直接測量了質(zhì)量流量質(zhì)量流量計(jì)優(yōu)點(diǎn)：高性價(jià)比。響應(yīng)速度快—小于2秒。的可靠性—使用一年以上，零點(diǎn)漂移小于滿量程的0.5%。易于集成—標(biāo)準(zhǔn)接頭和尺寸。出眾的效果—高品質(zhì)膜層與...

氦質(zhì)譜檢漏儀，是用氦氣為示漏氣體的專門用于檢漏的儀器。它具有性能穩(wěn)定、靈敏度高的特點(diǎn)。是真空檢漏技術(shù)中靈敏度zui高，使用zui普遍的檢漏儀器。氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用：元件檢漏的要求，靈活性測試，高靈敏度，快速于的結(jié)果，快速啟動，移動性和系統(tǒng)的可靠性。半導(dǎo)體工藝設(shè)備的維護(hù)，該設(shè)備本身帶或未帶有真空泵工藝氣體系統(tǒng)的檢測與安裝元器件在組裝前的漏率測試要求高抽速、高靈敏度以及清潔測試條件的應(yīng)用場合氦質(zhì)譜檢漏儀的原理：氦質(zhì)譜檢漏儀是根據(jù)質(zhì)譜學(xué)原理，用氦氣作示漏氣體制成的氣密性檢測儀器。由...

隔膜真空泵設(shè)計(jì)先進(jìn)，工作效率高，使用壽命長，是集高新技術(shù)于一體的換代產(chǎn)品。隔膜真空泵為蒸發(fā)、蒸餾、結(jié)晶、干燥、升華、過濾減壓、脫氣提供真空條件，以及溶媒回收、各種劇毒，易燃易爆、強(qiáng)酸、強(qiáng)堿抽取。除適用于循環(huán)水式真空泵和旋片式真空泵的適用場合外，還用于醫(yī)療醫(yī)藥產(chǎn)品分析、精細(xì)化工、生化制藥、食品檢驗(yàn)、*刑偵技術(shù)等領(lǐng)域，是為其精密色譜儀器配套的產(chǎn)品，也是實(shí)驗(yàn)室*的裝備之一。隔膜真空泵的極限壓強(qiáng)泵的極限壓強(qiáng)單位是Pa，是指泵在入口處裝有標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)罩并按規(guī)定條件工作，在不引入氣體正常工作...

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并...